①鍍鉻液的主要成分不是金屬鉻鹽，而是鉻的含氧酸——鉻酸，屬于強酸性鍍液。電鍍進程中，進程雜亂，電流大部分消耗在析氫及六價鉻還原為三價鉻兩個副反應上，故鍍鉻的電流效率很低。并且有三個異?，F象：電流效率隨鉻酐濃度的升高而下降l隨溫度的升高而下降；隨電流密度的增加而升高。

  ②在鍍鉻液中，須增加一定量的陰離子，如SO42-、SiF62-、F-等，才能實現金屬鉻的正常堆積。

  ③鍍鉻液的渙散才能很低，關于形狀雜亂的零件，以得到均勻的鍍鉻層。對掛具的要求也比較嚴格。

  ④鍍鉻需選用較高的電流密度，一般在20A/dm2以上，比一般的鍍種高10倍以上。由于陰極和很多析出氣體，使鍍液的電阻較大，槽壓升高，對電鍍電源要求高，需選用大于12V的電源，而其他鍍種運用8V以下的電源即可。

  ⑤鍍鉻的陽極不用金屬鉻，而選用不溶性陽極。一般運用鉛、鉛一銻合金及鉛一錫合金。鍍液內由于堆積或其他原因此消耗的鉻需靠增加鉻酐來補充。

  ⑥鍍鉻的操作溫度和電流密度有一定的依靠聯絡，改動二者聯絡可獲得不同功能的鉻鍍層。